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Tailoring the electronic transitions of NdNiO_3 films through (111)_pc oriented interfaces

机译:通过(111)_pc调整NdNiO_3薄膜的电子跃迁   面向接口

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摘要

Bulk NdNiO_3 and thin films grown along the pseudocubic (001)_pc axis displaya 1st order metal to insulator transition (MIT) together with a N\'eeltransition at T=200K. Here, we show that for NdNiO3 films deposited on (111)_pcNdGaO_3 the MIT occurs at T=335K and the N\'eel transition at T=230 K. Bycomparing transport and magnetic properties of layers grown on substrates withdifferent symmetries and lattice parameters, we demonstrate a particularlylarge tuning when the epitaxy is realized on (111)_pc surfaces. We attributethis effect to the specific lattice matching conditions imposed along thisdirection when using orthorhombic substrates.
机译:块状NdNiO_3和沿伪立方(001)_pc轴生长的薄膜显示出一阶金属到绝缘体的转变(MIT)以及在T = 200K时的N'el转变。在这里,我们表明,对于沉积在(111)_pcNdGaO_3上的NdNiO3薄膜,MIT发生在T = 335K,N \'elel跃迁发生在T = 230K。通过比较在具有不同对称性和晶格参数的基板上生长的层的传输和磁性,当在(111)_pc表面上实现外延时,我们演示了一个特别大的调整。我们将此影响归因于使用正交晶衬底时沿该方向施加的特定晶格匹配条件。

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